机译:通过原位C / sub 2 / H / sub 5 / Cl气相蚀刻和MOCVD重生获得具有垂直刻蚀小面和宽带隙光学窗口的AlGaAs-GaAs埋藏异质结构激光器
机译:利用高温下F2 + NO→F + FNO的反应,通过Si化学干法刻蚀,形成纳米孔特征,平坦表面或晶体学取向的刻蚀轮廓
机译:高压尖晶石LiNi0.5Mn1.5O4正极材料的Ni / Mn比和形貌相关的晶面结构及电化学性能
机译:原位C2H5Cl气相蚀刻和MOCVD再生长的AlGaAs / GaAs蚀刻面激光器
机译:海上管道的电阳极阴极保护(CP)改造:CP电位分布的分析模型
机译:晶体学确定的蚀刻及其与硅粉金属辅助催化蚀刻(MACE)的关系
机译:DNA寡核苷酸均匀蚀刻和保护刻面银纳米结构